Metodo para reducir o eliminar microorganismos en superficies duras o semi-duras, ya sea lisas o porosas de distintos tipos de material constructivo, que comprende aplicar un campo electromagnetico de radiofrecuencia en la banda no ionizante.

  • Inicio
  • Directorio de Patentes
  • Metodo para reducir o eliminar microorganismos en superficies duras o semi-duras, ya sea lisas o porosas de distintos tipos de material constructivo, que comprende aplicar un campo electromagnetico de radiofrecuencia en la banda no ionizante.
  • Nro. Solicitud: 201800276
  • Tipo de Solicitud: Patente de Invención
  • Fecha de presentación de la solicitud: 31/01/2018
  • Estado de Trámite: Registrada
  • Número de registro: 59529
  • Fecha de asignación de número de registro: 04/06/2020
  • Fecha de publicación: 18/05/2018
  • Fecha prevista de la expiración del registro: 31/01/2038

Título de la solicitud


METODO PARA REDUCIR O ELIMINAR MICROORGANISMOS EN SUPERFICIES DURAS O SEMI-DURAS, YA SEA LISAS O POROSAS DE DISTINTOS TIPOS DE MATERIAL CONSTRUCTIVO, QUE COMPRENDE APLICAR UN CAMPO ELECTROMAGNETICO DE RADIOFRECUENCIA EN LA BANDA NO IONIZANTE.

Solicitante(s)


Nombre Solicitante País
UNIVERSIDAD DE SANTIAGO DE CHILE CHILE

Representante(s)


Nombre Representante País
ESTUDIO VILLASECA Y CIA CHILE

Inventores


Nombre Inventor País
GANGA MUÑOZ, MARIA ANGÉLICA CHILE
GODOY OLIVARES, LILIANA DEL PILAR CHILE
RODRIGUEZ GARCIA, ARTURO BENITO CHILE

Clasificación IPC


A23L2/48; A23L3/005; A61L2/08; B01J19/12; C23C16/48; C23C16/505;
IPC Descripción
A23L2/48 BEBIDAS NO ALCOHÓLICAS => NO EXISTE EN LA VERSION 2025
A61L2/08 PROCEDIMIENTOS O APARATOS PARA DESINFECTAR O ESTERILIZAR MATERIALES U OBJETOS DISTINTOS A LOS PRODUCTOS ALIMENTICIOS Y A LAS LENTES DE CONTACTO => QUE UTILIZAN FENÓMENOS FÍSICOS => => RADIACIONES
B01J19/12 PROCEDIMIENTOS QUÍMICOS, FÍSICOS O FÍSICO-QUÍMICOS EN GENERAL => PROCEDIMIENTOS QUE UTILIZAN LA APLICACIÓN DIRECTA DE LA ENERGÍA ONDULATORIA O ELÉCTRICA, O UNA RADIACIÓN PARTICULAR => => UTILIZANDO RADIACIONES ELECTROMAGNÉTICAS
C23C16/48 REVESTIMIENTO QUÍMICO POR DESCOMPOSICIÓN DE COMPUESTOS GASEOSOS, NO QUEDANDO PRODUCTOS DE REACCIÓN DEL MATERIAL DE LA SUPERFICIE EN EL REVESTIMIENTO, ES DECIR, PROCESOS DE DEPOSICIÓN QUÍMICA EN FASE VAPOR [CVD] => CARACTERIZADO POR EL PROCESO DE REVESTIMIENTO => => POR IRRADIACIÓN, P. EJ. POR FOTOLISIS, RADIOLISIS O RADIACIÓN CORPUSCULAR
C23C16/505 REVESTIMIENTO QUÍMICO POR DESCOMPOSICIÓN DE COMPUESTOS GASEOSOS, NO QUEDANDO PRODUCTOS DE REACCIÓN DEL MATERIAL DE LA SUPERFICIE EN EL REVESTIMIENTO, ES DECIR, PROCESOS DE DEPOSICIÓN QUÍMICA EN FASE VAPOR [CVD] => POR MEDIO DE DESCARGAS ELÉCTRICAS => => UTILIZANDO DESCARGAS CON RADIOFRECUENCIA

Datos relativos a la prioridad


Fecha Número País
31/01/2018 2018276 CHILE