Nº 201903757 Patente registrada en INAPI
Sistema de descarga de arco en atmosfera controlada para la produccion de material nanometrico, que comprende: alimentacion; cámara de reaccion compuesta por al menos un electrodo fijo un electrodo variable o movil; y camara de recoleccion, que esta compuesta por un precipitador electrostatico diferencial con descarga de corona.
Concedida
Solicitud
201903757
Tipo
Patente de Invención
Registro
63487
Inventores (6)
Personas que figuran como creadoras de la invención
AG
ANDRES ALFONSO DIAZ GOMEZ
CHILE
CM
CARLOS ANDRES MEDINA MUÑOZ
CHILE
DJ
DAVID EDUARDO ROJAS JARA
CHILE
GG
GRECO ALONSO MORAGA GONZALEZ
CHILE
MC
MANUEL FRANCISCO MELENDREZ CASTRO
CHILE
PV
PAULO ANDRES FLORES VEGA
CHILE
Solicitantes (1)
Personas o empresas que solicitan la patente
Representantes legales (1)
Estudios jurídicos o agentes registrados ante INAPI
XB
XIMENA CARMEN SEPÚLVEDA BARRERA
Clasificación CIP (3)
Códigos de la Clasificación Internacional de Patentes
B82B3/00
Fabricación o tratamiento de nanoestructuras por manipulación de átomos o moléculas individuales, colecciones limitadas de átomos o moléculas como unidades discretas. C01G9/02
Compuestos de zinc => Oxidos H05H1/32
Producción del plasma => Producción del plasma => Antorchas de plasma => => utilizando un arco