Nº 201303340 Patente registrada en INAPI

Sistema con arco electrico en atmosfera controlada, que comprende una seccion de alimentacion, una seccion de descarga y reaccion, seguida de un sistema de aceleracion de carga superficial, que conduce a una seccion de acumulacion y relajacion; y proceso continuo para la produccion de material nanometrico en dicho sistema.

Concedida
Solicitud
201303340
Tipo
Patente de Invención
Registro
54341

Inventores (4)

Personas que figuran como creadoras de la invención

FP
FLORES VEGA, PAULO
CHILE
MC
MEDINA MUÑOZ, CARLOS
CHILE
MF
MELENDREZ CASTRO, MANUEL FRANCISCO
CHILE
PE
PEREZ TIJERINA, EDUARDO
CHILE

Solicitantes (1)

Personas o empresas que solicitan la patente

Representantes legales (1)

Estudios jurídicos o agentes registrados ante INAPI

XB
Ximena Sepulveda Barrera

Clasificación CIP (3)

Códigos de la Clasificación Internacional de Patentes

B82B3/00
Fabricación o tratamiento de nanoestructuras por manipulación de átomos o moléculas individuales, colecciones limitadas de átomos o moléculas como unidades discretas.
C01G9/02
Compuestos de zinc => Oxidos
H05H1/32
Producción del plasma => Producción del plasma => Antorchas de plasma => => utilizando un arco