Nº 201303340 Patente registrada en INAPI
Sistema con arco electrico en atmosfera controlada, que comprende una seccion de alimentacion, una seccion de descarga y reaccion, seguida de un sistema de aceleracion de carga superficial, que conduce a una seccion de acumulacion y relajacion; y proceso continuo para la produccion de material nanometrico en dicho sistema.
Concedida
Solicitud
201303340
Tipo
Patente de Invención
Registro
54341
Inventores (4)
Personas que figuran como creadoras de la invención
FP
FLORES VEGA, PAULO
CHILE
MC
MEDINA MUÑOZ, CARLOS
CHILE
MF
MELENDREZ CASTRO, MANUEL FRANCISCO
CHILE
PE
PEREZ TIJERINA, EDUARDO
CHILE
Solicitantes (1)
Personas o empresas que solicitan la patente
Representantes legales (1)
Estudios jurídicos o agentes registrados ante INAPI
XB
Ximena Sepulveda Barrera
Clasificación CIP (3)
Códigos de la Clasificación Internacional de Patentes
B82B3/00
Fabricación o tratamiento de nanoestructuras por manipulación de átomos o moléculas individuales, colecciones limitadas de átomos o moléculas como unidades discretas. C01G9/02
Compuestos de zinc => Oxidos H05H1/32
Producción del plasma => Producción del plasma => Antorchas de plasma => => utilizando un arco