Título de la solicitud
PROCEDIMIENTO PARA REVESTIR CANTOS Y FRANJA SUPERIOR DE CATODOS NUEVOS O USADOS PERMANENTE Y EN FRIO QUE COMPRENDE PREPARAR TODA LA SUPERFICIE A REVESTIR, APLICAR UNA MEMBRANA ELASTOMERICA LIQUIDA Y ENCAJAR UN BURLETE DE CAUCHO.
Solicitante(s)
| Nombre Solicitante | País |
| RODRIGO VERA Y ASOCIADOS LIMITADA | CHILE |
Representante(s)
| Nombre Representante | País |
| RODRIGO VERA Y ASOCIADOS LIMITADA | CHILE |
Inventores
| Nombre Inventor | País |
| RODRIGO VERA MALDONADO | CHILE |
Clasificación IPC
C25C3/00; H01L21/02; H01L21/027;
| IPC | Descripción |
| C25C3/00 | PRODUCCIÓN ELECTROLÍTICA, RECUPERACIÓN O AFINADO DE METALES POR ELECTRÓLISIS DE BAÑOS FUNDIDOS |
| H01L21/02 | PROCEDIMIENTOS O APARATOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA LA FABRICACIÓN O EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES O DE DISPOSITIVOS DE ESTADO SÓLIDO, O BIEN DE SUS PARTES CONSTITUTIVAS => FABRICACIÓN O TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES O DE SUS PARTES CONSTITUTIVAS |
| H01L21/027 | PROCEDIMIENTOS O APARATOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA LA FABRICACIÓN O EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES O DE DISPOSITIVOS DE ESTADO SÓLIDO, O BIEN DE SUS PARTES CONSTITUTIVAS => FABRICACIÓN O TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES O DE SUS PARTES CONSTITUTIVAS => => FABRICACIÓN DE MÁSCARAS SOBRE CUERPOS SEMICONDUCTORES PARA TRATAMIENTO FOTOLITOGRÁFICO ULTERIOR, NO PREVISTA EN EL GRUPO O
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Datos relativos a la prioridad
| Fecha | Número | País |
| NO SE ENCONTRARON REGISTROS |