Nº 202201379 Patente registrada en INAPI

Patrón de camuflaje

Concedida
Solicitud
202201379
Tipo
Dibujo o Diseño Industrial
Registro
10779

Inventores (1)

Personas que figuran como creadoras de la invención

PY
PAUL YATSKO
ESTADOS UNIDOS DE AMERICA

Solicitantes (1)

Personas o empresas que solicitan la patente

AL
A51 DEVELOPMENT, LLC
ESTADOS UNIDOS DE AMERICA

Representantes legales (1)

Estudios jurídicos o agentes registrados ante INAPI

CS
CLARKE MODET Y C CHILE SPA
RUT 78773320-4

Datos de prioridad (1)

Prioridades reclamadas en otras jurisdicciones

CHILE
Nº 202100169
21/01/2021