Metodo y sistema para producir grafeno por deposicion de vapor quimico sobre un sustrato de dos laminas de cobre paralelas en una camara de vidrio cilindrica dispuesta verticalmente y abierta en su parte inferior, suministrando una mezcla de metano y argon y calentando las laminas de cobre mediante induccion electromagnetica.

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  • Nro. Solicitud: 201601858
  • Tipo de Solicitud: Patente de Invención
  • Fecha de presentación de la solicitud: 21/07/2016
  • Estado de Trámite: Registrada
  • Número de registro: 57322
  • Fecha de asignación de número de registro: 06/05/2019
  • Fecha de publicación: 17/02/2017
  • Fecha prevista de la expiración del registro: 21/07/2036

Título de la solicitud

METODO Y SISTEMA PARA PRODUCIR GRAFENO POR DEPOSICION DE VAPOR QUIMICO SOBRE UN SUSTRATO DE DOS LAMINAS DE COBRE PARALELAS EN UNA CAMARA DE VIDRIO CILINDRICA DISPUESTA VERTICALMENTE Y ABIERTA EN SU PARTE INFERIOR, SUMINISTRANDO UNA MEZCLA DE METANO Y ARGON Y CALENTANDO LAS LAMINAS DE COBRE MEDIANTE INDUCCION ELECTROMAGNETICA.

Solicitante(s)

Nombre Solicitante País
UNIVERSIDAD TECNICA FEDERICO SANTA MARIA CHILE

Representante(s)

Nombre Representante País
JOHANSSON CHILE

Inventores

Nombre Inventor País
CHRISTIAN ORELLANA GOMEZ CHILE
PATRICIO HABERLE TAPIA CHILE

Clasificación IPC

B82Y40/00; C01B31/04; C23C16/26;
IPC Descripción
B82Y40/00 FABRICACIÓN O TRATAMIENTO DE NANOESTRUCTURAS
C23C16/26 REVESTIMIENTO QUÍMICO POR DESCOMPOSICIÓN DE COMPUESTOS GASEOSOS, NO QUEDANDO PRODUCTOS DE REACCIÓN DEL MATERIAL DE LA SUPERFICIE EN EL REVESTIMIENTO, ES DECIR, PROCESOS DE DEPOSICIÓN QUÍMICA EN FASE VAPOR [CVD] => CARACTERIZADO POR LA DEPOSICIÓN DE MATERIALES INORGÁNICOS, DISTINTOS DE LOS MATERIALES METÁLICOS => => DEPOSICIÓN SOLAMENTE DE CARBONO

Datos relativos a la prioridad

Fecha Número País
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