Nº 201601858 Patente registrada en INAPI
Metodo y sistema para producir grafeno por deposicion de vapor quimico sobre un sustrato de dos laminas de cobre paralelas en una camara de vidrio cilindrica dispuesta verticalmente y abierta en su parte inferior, suministrando una mezcla de metano y argon y calentando las laminas de cobre mediante induccion electromagnetica.
Concedida
Solicitud
201601858
Tipo
Patente de Invención
Registro
57322
Inventores (2)
Personas que figuran como creadoras de la invención
CG
CHRISTIAN ORELLANA GOMEZ
CHILE
PT
PATRICIO HABERLE TAPIA
CHILE
Solicitantes (1)
Personas o empresas que solicitan la patente
Representantes legales (1)
Estudios jurídicos o agentes registrados ante INAPI
JO
JOHANSSON
Clasificación CIP (2)
Códigos de la Clasificación Internacional de Patentes
B82Y40/00
Fabricación o tratamiento de nanoestructuras C23C16/26
Revestimiento químico por descomposición de compuestos gaseosos, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento, es decir, procesos de deposición química en fase vapor [CVD] => caracterizado por la deposición de materiales inorgánicos, distintos de los materiales metálicos => => Deposición solamente de carbono Preguntas frecuentes
¿Quién es el titular de la patente "Metodo y sistema para producir grafeno por deposicion de vapor quimico sobre un sustrato…"?
El solicitante es Universidad Tecnica Federico Santa Maria.
¿La patente está vigente?
Sí. La patente fue concedida (registro Nº 57322) y su protección vence el 21 de julio de 2036.
¿En qué categoría técnica se clasifica?
Se clasifica en B82Y40/00 y C23C16/26 de la Clasificación Internacional de Patentes (CIP): fabricación o tratamiento de nanoestructuras.
¿Cuándo se solicitó la patente?
La solicitud Nº 201601858 se presentó el 21 de julio de 2016, se publicó el 17 de febrero de 2017 y se concedió el 6 de mayo de 2019.