Nº 202102436 Patente registrada en INAPI
Método y sistema de depuración continua de aguas residuales mediante el uso de gas
Concedida
Solicitud
202102436
Tipo
Patente de Invención
Registro
68373
Inventores (9)
Personas que figuran como creadoras de la invención
DA
DENG, AIMIN
CHINA
DL
DENG, LEI
CHINA
LT
LIU, TAO
CHINA
PH
PENG, HONGDAO
CHINA
WZ
WANG, ZHAOQI
CHINA
XY
XU, YONG
CHINA
YL
YU, LEI
CHINA
YZ
YU, ZHIYAN
CHINA
ZF
ZENG, FANGCHENG
CHINA
Solicitantes (1)
Personas o empresas que solicitan la patente
CL
CHINA NERIN ENGINEERING CO., LTD.
CHINA
Representantes legales (1)
Estudios jurídicos o agentes registrados ante INAPI
Clasificación CIP (4)
Códigos de la Clasificación Internacional de Patentes
C02F1/62
Tratamiento del agua, agua residual o de alcantarilla => por eliminación de compuestos especificados disueltos => => Compuestos de metales pesados C02F1/74
Tratamiento del agua, agua residual o de alcantarilla => por oxidación => => por medio de aire C02F1/78
Tratamiento del agua, agua residual o de alcantarilla => por oxidación => => por medio de ozono C02F9/00
Tratamiento en varias etapas del agua, agua residual o de alcantarilla Datos de prioridad (3)
Prioridades reclamadas en otras jurisdicciones
CHINA
Nº 201910250359.7
29/03/2019
CHINA
Nº 201910250367.1
29/03/2019
CHINA
Nº 201920424591.3
29/03/2019