Título de la solicitud
METODO PARA NANOMODULAR SUPERFICIES METALICAS, QUE COMPRENDE OBTENER MEDIANTE ANODIZACION UNA PLANTILLA DE ALUMINIO GRABADA CON NANOVALLES, NANOMODULAR UNA PELICULA METALICA SOBRE DICHA PLANTILLA MEDIANTE “SPUTTERING”; PELICULAS METALICAS NANOESTRUCTURADAS; Y USO DE DICHAS PELICULAS.
Solicitante(s)
| Nombre Solicitante | País |
| UNIVERSIDAD DE SANTIAGO DE CHILE | CHILE |
Representante(s)
Inventores
| Nombre Inventor | País |
| JUAN EDUARDO ESCRIG MURUA | CHILE |
| JUAN LUIS PALMA SOLORZA | CHILE |
| JULIANO CASAGRANDE DENARDIN | CHILE |
Clasificación IPC
C23C14/22;
| IPC | Descripción |
| C23C14/22 | REVESTIMIENTO POR EVAPORACIÓN EN VACÍO, PULVERIZACIÓN CATÓDICA O IMPLANTACIÓN DE IONES DEL MATERIAL QUE CONSTITUYE EL REVESTIMIENTO => CARACTERIZADO POR EL PROCESO DE REVESTIMIENTO |
Datos relativos a la prioridad
| Fecha | Número | País |
| NO SE ENCONTRARON REGISTROS |