METODO DE DEPOSITO CON VAPOR DE SUSTRATOS CON UNA CAPA TRANSPARENTE DE BARRERA DE OXIDO DE ALUMINIO MEDIANTE EVAPORACION DE ALUMINIO E INGRESO DE GAS REACTIVO, DONDE ANTES DE RECUBRIR CON DICHO OXIDO, SE APLICA UNA CAPA METALICA O DE OXIDO DE METAL ULTRADELGADA AL SUSTRATO MEDIANTE BOMBARDEO DE IONES CON MAGNETRON

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  • Nro. Solicitud: 200401336
  • Tipo de Solicitud: Patente de Invención
  • Fecha de presentación de la solicitud: 31/05/2004
  • Estado de Trámite: Registrada
  • Número de registro: 48425
  • Fecha de asignación de número de registro: 23/07/2012
  • Fecha de publicación: 03/06/2005
  • Fecha prevista de la expiración del registro: 19/04/2027

Título de la solicitud

METODO DE DEPOSITO CON VAPOR DE SUSTRATOS CON UNA CAPA TRANSPARENTE DE BARRERA DE OXIDO DE ALUMINIO MEDIANTE EVAPORACION DE ALUMINIO E INGRESO DE GAS REACTIVO, DONDE ANTES DE RECUBRIR CON DICHO OXIDO, SE APLICA UNA CAPA METALICA O DE OXIDO DE METAL ULTRADELGADA AL SUSTRATO MEDIANTE BOMBARDEO DE IONES CON MAGNETRON

Solicitante(s)

Nombre Solicitante País
BIOFILM S.A. COLOMBIA

Representante(s)

Nombre Representante País
PORZIO CHILE

Inventores

Nombre Inventor País
NICOLAS SCHILLER ALEMANIA
STEFFEN STRAACH ALEMANIA
MATHIAS RÄBISCH ALEMANIA
CHRISTOPH CHARTON ALEMANIA
MATTHIAS FAHLAND ALEMANIA

Clasificación IPC

C23C14/35;
IPC Descripción
C23C14/35 REVESTIMIENTO POR EVAPORACIÓN EN VACÍO, PULVERIZACIÓN CATÓDICA O IMPLANTACIÓN DE IONES DEL MATERIAL QUE CONSTITUYE EL REVESTIMIENTO => CARACTERIZADO POR EL PROCESO DE REVESTIMIENTO => PULVERIZACIÓN CATÓDICA => => POR APLICACIÓN DE UN CAMPO MAGNÉTICO, P. EJ. PULVERIZACIÓN POR MEDIO DE UN MAGNETRÓN

Datos relativos a la prioridad

Fecha Número País
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