Nº 200401336 Patente registrada en INAPI

Metodo de deposito con vapor de sustratos con una capa transparente de barrera de oxido de aluminio mediante evaporacion de aluminio e ingreso de gas reactivo, donde antes de recubrir con dicho oxido, se aplica una capa metalica o de oxido de metal ultradelgada al sustrato mediante bombardeo de iones con magnetron