Nº 201703431 Patente registrada en INAPI

Dibujo industrial de patron ornamental aplicable en superficies de articulos absorbentes, se forma a partir de un eje central longitudinal imaginario sobre el cual se disponen figuras elipticas de extremos espaciados una de mayor tamaño seguida por una de tamaño menor, formadas por trazos concavos enfrentados y separadas por un circulo, hacia cada lado dos lineas continuas de suave curvatura paral

Concedida
Solicitud
201703431
Tipo
Dibujo o Diseño Industrial
Registro
9220

Inventores (1)

Personas que figuran como creadoras de la invención

TM
TOMAS LUIS AMIAMA DI MARZIO
CHILE

Solicitantes (1)

Personas o empresas que solicitan la patente

CS
CMPC TISSUE S.A.
CHILE

Representantes legales (1)

Estudios jurídicos o agentes registrados ante INAPI