Composicion y método para fabricar una placa generadora de iones negativos.

  • Nro. Solicitud: 202102046
  • Tipo de Solicitud: Patente de Invención
  • Fecha de presentación de la solicitud: 03/08/2021
  • Estado de Trámite: Registrada
  • Número de registro: 67802
  • Fecha de asignación de número de registro: 24/10/2023
  • Fecha de publicación: 07/01/2022
  • Fecha prevista de la expiración del registro: 20/03/2040

Título de la solicitud


COMPOSICION Y MÉTODO PARA FABRICAR UNA PLACA GENERADORA DE IONES NEGATIVOS.

Solicitante(s)


Nombre Solicitante País
ORTEGA SAZO, Felipe Alejandro CHILE

Representante(s)


Nombre Representante País
ASESORIAS Y SERVICIOS MARCCAIN LTDA CHILE

Inventores


Nombre Inventor País
ORTEGA SAZO, FELIPE ALEJANDRO CHILE

Clasificación IPC


C08K3/34; C08L63/00; H01T23/00; H10N30/092;
IPC Descripción
C08K3/34 UTILIZACIÓN DE SUSTANCIAS INORGÁNICAS COMO ADITIVOS DE LA COMPOSICIÓN POLIMÉRICA => COMPUESTOS QUE CONTIENEN SILICIO
C08L63/00 COMPOSICIONES DE RESINAS EPOXI
H01T23/00 APARATOS PARA LA PRODUCCIÓN DE IONES DESTINADOS A SER INTRODUCIDOS EN GASES EN ESTADO LIBRE, P. EJ. EN LA ATMÓSFERA
H10N30/092 DISPOSITIVOS PIEZOELÉCTRICOS O ELECTROSTRICTIVOS => FORMACIÓN DE MATERIALES PIEZOELÉCTRICOS O ELECTROESTRICTIVOS => => FORMACIÓN DE MATERIALES COMPUESTOS

Datos relativos a la prioridad


Fecha Número País
NO SE ENCONTRARON REGISTROS